X光機應用越來越廣泛，有醫用X光機、工業X光機，而工業最主要以X光機無損檢測發展趨頭為主。X光機平板檢測器的介紹就由SXRAY瑞茂光學在下面為你講解！

X光機平板探測器主要分為三大技術

CCD、一線掃描、非晶體平板 (非晶硒、非晶硅+碘化銫/非晶硅+氧化釓)。

1、CCD

由于物理局限性，專家們普遍認為大面積平板采像 CCD 技術不勝任，而且CCD設備在圖像質量上較非晶硅/硒平板設備有一定差距，但是相對有價格優勢；世界上還有幾個廠家用此技術如 Swissray。

2、一線掃描

也稱一維線掃描技術，由俄羅斯科學院核物理研究所發明，也就是國內中興航天在生產的DR；有受照劑量低、設備造價相對平板技術更低廉的優點，但也存在成像時間長（數秒）、空間分辨率低（剛推出時是1mm/lp）以及X線使用效率低的致命缺陷；成像質量較差而且病人會接受大量不必要的輻射。 

3、非晶平板

非晶硒/非晶硅；主要由非晶硒層(a-Se)/非晶硅層(a-Si)加薄膜半導體陣列 (TFT)構成。

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